SF6, ili sumpor Hexafluoride, plin je koji se obično koristi u suhom, koji se uglavnom koristi za silikonsku itching u procesu proizvodnje poluvodiča. Gas SF6 ima oktaedralnu strukturu, koja se sastoji od središnjeg sumpora atoma okruženog šest atoma fluora. Njegova ne-polarna svojstva čine ga izolacijskim plinom u visokonapornoj električnoj opremi. Fizička svojstva SF6 uključuju bezbojni, bez zapaljive, netoksične, izolacijske, teže od zraka, hlađenja, visoku dielektričnu čvrstoću, toplinsku stabilnost i topljivost u ne-polarnim organskim otapalima.
Što se tiče hemijskih svojstava, SF6 teško reaguje sa drugim supstancama na sobnoj temperaturi, ali će se razgraditi pod jakim ultraljubičastim svetlom.
SF6 obično proizvodi industrija i njen sadržaj u prirodi je vrlo mali. Reakcijska jednadžba za proizvodnju SF6 je:
2 CoF₃ + SF₄ + [Br₂] → SF₆ + 2 CoF₂ + [Br₂]
Kad se sf₄, cof₃ i br₂ miješaju zajedno i grijani u 100 stepeni, između njih se pojavljuje reakcija. U ovoj reakciji, dio SF₄ i COF₃ reagira na proizvodnju SF₆ i COF₂. Bromin se ne konzumira u reakciji, to djeluje samo kao katalizator.
Je li SF6 opasan?
Iako je SF6 netoksičan u svom čistom stanju, on će isprazniti kisik iz zraka, a koncentracija volumena veća od 19% u zraku uzrokuje gušenje. Stoga je vrlo važno pravovremeno otkriti curenje SF6 i poduzeti odgovarajuće preventivne mjere u procesu proizvodnje poluvodiča.
Upotreba SF6 u industriji poluprovodnika
SF6 se široko koristi u proizvodnji poluvodiča. U procesu silikonskog jetkanja, SF6 se koristi kao glavni gas za jetkanje, a djeluje zajedno sa generiranim isparljivim gasovima SF4 i C4F8 za postizanje dubokog silikonskog jetkanja. Pored toga, SF6 se često koristi za suho jetkanje MO i W metala, reagirajući s tim metalima za generiranje volatilnih heksafluorida mof³ i wf₆. Iako SF6 nije preferirani plin za aluminijumskam, može se koristiti kao pomoćni plin za poboljšanje brzine etaže aluminija kada se pomiješa sa gasovima poput CL₂.
Silicon Etching
U koraku silikonskog jetkanja, samo silicijum na dnu na kojem je uklonjen film pasivacije. Uveden je SF6 plin, a SF6 se disocira u plazmi za generiranje raznih produkata raspadanja, uključujući visoko aktivne atome fluora (F).
SF6-->SF4+F2-->SF2+2F2-->F+...
Generisani atomi fluora reaguju sa površinom silicijuma i stvaraju silicijum tetrafluorid (SiF4), isparljivo jedinjenje koje se lako ispušta iz komore.
Si+4F-->SiF4
Donja sloj pasivacije
U ovoj fazi se formira sloj pasivacije i na bočnom zidu i na dnu. Međutim, mi samo želimo zadržati sloj pasivnosti na bočnom zidu kako bi zaštitio bočni zid da se isključi, ali moramo ukloniti sloj pasivacije na dno da bi se smanjili prema dolje. Stoga će se u ovo vrijeme uvesti SF6 plin u ovom trenutku da napadne sloj pasivacije na dnu. Nakon što sloj pasivacije na donjem nestaje, SF6 i dalje uklanja silicijum, a ciklus se ponavlja, poput neprekidne petlje.
Jednokon SF6 Sulfur Hexafluoride fabrika u Kini
Pošaljite upit o sumpor heksafluoride SF6 plin za nas!
Osigurat ćemo visokokvalitetni SF6 plin i usluge kako bismo ispunili vaše potrebe za kupovinom.
Pošaljite upit odmah
